都知道华为研发了麒麟芯片，这种芯片已经达到5nm工艺水准，其性能仅次于苹果的A系列芯片。很可惜，华为只能研发设计芯片，却无法生产芯片。

台积电倒是有先进的芯片代工技术，但华为遭受打压后，台积电就不给华为代工麒麟芯片了。而内地的中芯国际有7nm芯片的技术但因为中芯国际没有先进的光刻机，因此中芯国际也是爱莫能助。

由此可见，解决光刻机问题，那么中芯国际就有希望实现7nm芯片的生产，甚至是5nm芯片的生产。中芯国际解决了光刻机问题，那么华为麒麟芯片问题也就迎刃而解了。

那么光刻机问题该怎么解决呢？除了自主研发，那就是采购了。

目前全球有四大光刻机厂商，分别是ASML、尼康、佳能、上海微电子。其中ASML是全球唯一一家可以生产EUV光刻机的厂商，并且ASML还能生产高端的DUV光刻机。据悉，经过多次曝光技术，ASML的高端DUV光刻机能生产7nm芯片，这反应了ASML在光刻机市场强大的领导能力。

尼康和佳能在ArF、KrF光刻机上有所建树，但和ASML的光刻机相比有不小的差距。即便如此，尼康、佳能在光刻机技术上也是超过上海微电子不少。

由于ASML、尼康、佳能在光刻机领域的领先地位，我国芯片代工厂商向这三家企业采购光刻机，但这个采购过程并不顺利。

据悉，中芯国际2018年的时候从ASML采购了一台EUV光刻机，本来这台光刻机可以顺利到货，但由于老美从中作梗，这台EUV光刻机无法发货。

而在今年的3月份，老美拉着荷兰、日本组成“封锁联盟”，以此限制中企获得先进的DUV设备。这又减少了中芯国际从尼康、佳能获取先进DUV光刻机的途径。

这样看来，中芯国际从ASML、尼康、佳能采购EUV光刻机、DUV光刻机暂时告一段落，唯有自主研发才能一劳永逸。

事实情况也确实如此，上海微电子已经实现光刻机技术的突破和光刻机的交付。据悉，上海微电子已经进行28nm光刻机的研发，目前这种光刻机已经进入验证阶段。如果进展顺利的话，这款28nm光刻机将会在年底下线。

除此之外，上海微电子已经向昆山同兴达正式交付了2台SEMM光刻机。在这2台光刻机的辅助下，昆山同兴达将在明年8月份实现每日2万片晶圆的产量。

当SEMM光刻机正式交付后，一个奇怪的现象就出现了，那就是老美允许美企恢复向华为自由出货。虽然老美提出了解禁条件，并且这个条件有些苛刻，但这对于华为等一众企业而言，这仍不失为是一个好消息。

从采取一系列的打压政策，到允许向华为恢复出货自由，老美的这个转变让人感到奇怪。为什么会出现这种情况的现象呢？我认为有以下三点可讲。

首先是国产光刻机技术实现多项突破，老美感受到危机。从哈工大的超高速精密激光干涉仪，到上海微电子的28nm光刻机的研制，老美感受到我国光刻机技术的飞速发展。为了限制我国光刻机产业的发展老美采用了微软的那套方式，让我国暂缓光刻机的研发。

其次是上海微电子的SEMM光刻机价格便宜不到2000万元，有价格优势。和ASML动辄1亿美元光刻机，尼康、佳能几千万美元的光刻机相比，上海微电子的SEMM光刻机更具性价比。

最后是我国的上海积塔半导体公司已经中标ASML公司6台光刻机，这6台光刻机将在近日运回我国。不难看出，老美的“美日荷封锁联盟”已经失策，老美有紧迫感了。为了占据市场份额，老美才提出解禁条件，允许美企向中企自由出货。

写在最后

虽然上海微电子的SEMM光刻机和ASML、尼康、佳能的DUV光刻机、EUV光刻机有不小的差距。但万事开头难，我国已经可以在自己的供应链的体系下生产出SEMM光刻机，这已经实属难得了。

相信在不久的将来，上海微电子的28nm光刻机将会量产上市，到时候我国在28nm光刻机市场就不会受制于人了。